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簡要描述:sutter微電極坡口機(jī)BV-10一個(gè) 2 軸顯微操縱器將移液器固定成斜面,并允許在研磨表面上進(jìn)行可控的前進(jìn)。斜角和前進(jìn)速度可調(diào)。帶有鵝頸管的 LED 燈通過為研磨板和移液器提供清晰的照明來增強(qiáng)斜切操作。
品牌 | 其他品牌 | 產(chǎn)地類別 | 國產(chǎn) |
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應(yīng)用領(lǐng)域 | 環(huán)保,化工,能源,電子,綜合 |
sutter微電極坡口機(jī)BV-10
sutter微電極坡口機(jī)BV-10的介紹
BV-10 優(yōu)雅且易于使用,可對(duì) 0.1 至 100 µm 之間的微量移液器吸頭進(jìn)行精確斜切。的研磨盤驅(qū)動(dòng)系統(tǒng)無振動(dòng),可更好地控制坡口加工過程。使用 Brown 和 Flaming,《科學(xué)》,1974 年 8 月,第 185.
細(xì)胞內(nèi)記錄電極可以受益于斜切,因?yàn)椋?/span>
通過在電極上形成尖點(diǎn)來減小直徑
由于內(nèi)腔的橫截面積較大,電極的電阻降低。
這極大地促進(jìn)了穿透和保持非常小或困難的細(xì)胞。顯微注射針也受益于斜面,它可以促進(jìn)以最小損傷進(jìn)入細(xì)胞,同時(shí)增強(qiáng)材料通過針的流動(dòng)。
基本的斜切系統(tǒng)由一個(gè)固定的基座組成,光學(xué)平坦到半波 (250 nm),表面安裝在一個(gè)沉重的基板上。這用作磨料涂層玻璃磨盤的軸承,該磨盤也是平坦的半波。平面研磨板通過磁場耦合到低振動(dòng)、低速電機(jī),以提供無擺動(dòng)的平面研磨表面。研磨板采用專有工藝制造,可確保一致的研磨涂層。
一個(gè) 2 軸顯微操縱器將移液器固定成斜面,并允許在研磨表面上進(jìn)行可控的前進(jìn)。斜角和前進(jìn)速度可調(diào)。帶有鵝頸管的 LED 燈通過為研磨板和移液器提供清晰的照明來增強(qiáng)斜切操作。
基本系統(tǒng)配有兩個(gè)您選擇的研磨板、一個(gè)帶支架的燈芯(用于濕式斜切)、底座油、脫脂液和手冊(cè)。
有兩個(gè)選項(xiàng)可用于監(jiān)控倒角過程,一個(gè) 40X 體視顯微鏡和一個(gè)電極阻抗計(jì). 根據(jù)您的研究應(yīng)用,這些選項(xiàng)中的一個(gè)或兩個(gè)可能是可取的。對(duì)于所有微量移液器應(yīng)用,擺動(dòng)式顯微鏡可增強(qiáng)您對(duì)移液器在研磨板上前進(jìn)的控制,并允許觀察斜角操作(示波器分辨率不足以查看實(shí)際斜角,除非是非常大的吸頭)。對(duì)于微電極應(yīng)用,阻抗計(jì)用于在斜切操作期間監(jiān)測(cè)電阻。該儀表采用模擬設(shè)計(jì),提供三個(gè)電阻范圍(0-10、0-100、0-500 MΩ)。測(cè)量頻率為 12 Hz,以最大限度地減少電容對(duì)測(cè)量阻抗的影響,并提供接近真實(shí)的直流電阻值。快速滾降用于減少 50/60 Hz 干擾,